Σιλικόνη χαμηλής απαέρωσης για κβαντικές μονάδες ψύξης

2026,10,19

Λέξεις-κλειδιά : σιλικόνη χαμηλής απαέρωσης, σιλικόνη κενού, υλικό θερμικής διεπαφής κβαντικού υπολογισμού, σιλικόνη εξαιρετικά χαμηλής πτητικότητας

Πρόταση κλειδί : Η σιλικόνη χαμηλής εκροής αερίου βαθμού κενού έχει περάσει δοκιμές τρίτων για την ελαχιστοποίηση της απελευθέρωσης πτητικών για συγκροτήματα κρυογονικής ψύξης κβαντικού υπολογισμού.

Αυτή η νέα προσαρμοσμένη σιλικόνη κενού στοχεύει περιβάλλοντα υψηλού κενού σε κβαντικά κέντρα δεδομένων. Σε αντίθεση με την τυπική θερμική σιλικόνη, ελέγχει τη μοριακή εξάτμιση και αποτρέπει τη μόλυνση των ευαίσθητων κβαντικών τσιπ σε κρυογονικές θερμοκρασίες. Διατηρεί σταθερή θερμική αγωγιμότητα και ελαστικότητα κάτω από ακραίες θερμοκρασίες από τη θερμοκρασία δωματίου έως το εύρος millikelvin. Οι κατασκευαστές κβαντικού υλικού αναζητούν υλικά που αποφεύγουν τη συσσώρευση υπολειμμάτων μέσα σε σφραγισμένους θαλάμους κενού. Το σκεύασμα πληροί τα πρότυπα ASTM E595 outgassing και μπορεί να παραδοθεί ως υγρή ένωση δοχείων ή ως προωρισμένη φλάντζα σιλικόνης. Οι προμηθευτές υλικών αναφέρουν αυξανόμενα δείγματα ερωτήσεων από εργαστήρια κβαντικής Ε&Α στη Βόρεια Αμερική και την Ευρώπη. Αυτό το εξειδικευμένο τμήμα σιλικόνης υψηλής αξίας αναμένεται να δει σταθερές παραγγελίες καθώς επιταχύνεται η κλιμάκωση του κβαντικού πρωτοτύπου.

Προηγούμενος

Επόμενος

Περιέγερση ΗΠΑ

Συγγραφέας:

Ms. zhou

ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ ΔΙΕΥΘΥΝΣΗ:

alice@szrl.net

Phone/WhatsApp:

18926763719

δημοφιλή Προϊόντα

Εταιρικά Νέα